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2020年半導體零件在汽車製造成本的佔比約30%,預計2030、2040年分別將達50%、70%。法新社作者:林育中汽車產業因為電動車、自駕車趨勢一路向半導體傾斜。2020年半導體零件在汽車製造成本的佔比約30%,預計2030、2040分別將達50%、70%。雖然進展的速度和詳細數目容或可議,但是汽車半導體化的趨勢已然啟動,而且沛然莫之能禦。汽車市場對於半導體產業是什麼概念?以下的數據以2019年
来源:前沿数控技术仅做知识分享,侵权联系删除!模具抛光通常使用油石条、羊毛轮、砂纸等,使材料表面发生塑性变形而去掉工件表面凸出部分到平滑面,一般以手工操作为主。表面质量要求高的可采用超精研抛的方法,超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。抛光可达到Ra0.008 μm的表面粗糙度。模具抛光常用的工具及规格类别1)模具抛光常用的工具有:砂纸、油石、绒毡
随着半导体工业飞速发展,电子器件的尺寸越来越小,对半导体原材料晶片表面的平整度要求也越来越高,达到纳米级别。对晶片表面处理的传统的平坦化技术有热流法、旋转玻璃法、回蚀法、选择淀积等,但这些都只能做到局部的平面化,不能达到全局平面化。化学机械抛光(CMP)不但能够对硅片表面进行局部处理,同时也可以对整个硅片表面进行平坦化处理,是目前唯一能兼顾表面全局和局部平坦化的技术。它可以平整晶片表面的不平坦区域