国瑞升优势
- GRISH不仅为您提供超精细的抛光耗材，我们还提供抛光配套产品和设备，如抛光垫、固态蜡、蜡态液和平面研磨机等一站式的抛光解决方案，让您省心省力；
- 在半导体领域拥有20余年的技术积累经验，可为您提供可靠和专业的服务；
- 12000m2的现代化工厂和专业稳健的生产团队，能确保产品的稳定性和一致性。
应用
关于陶瓷
如何抛光
国瑞升CMP精抛液，广泛用于多种材料纳米级的化学机械抛光。如: 氮化铝、氮化硅陶瓷基板等的抛光加工。
抛光
研磨过程一般包括双侧研磨（30-60分钟）和超精细抛光（120分钟）。在不到2.5小时的时间里，你可以得到10-15纳米的Ra。
双面研磨（30-60分钟）
清洁
超精细抛光（120分钟）
| 氮化铝/氮化硅散热衬底抛光方案 | 步骤 | 国瑞升产品 |
| 双面研磨（30-60分钟） | 类多晶研磨液 | |
| 超精细抛光(240-480分钟) | 纳米金刚石研磨液 + 研磨垫 | |
| CMP 研磨液 + 石英板 |
AlN/SiN散热基板的研磨抛光，采用特殊的粗糙和超细抛光液。通过粗糙和超细抛光工艺，大大减少了研磨时间，同时提高了抛光的质量，帮助客户提高工作效率。
国瑞升可以帮助客户根据要求对基材进行加工，并提供抛光和研磨的全面解决方案。
视频
国瑞升研磨液
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