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2023.05.24

液态蜡在半导体领域的应用现状-揭秘-液态蜡的前世今生

液态蜡在半导体领域的应用现状-揭秘-液态蜡的前世今生
目录

摘要

本文主要介绍了液态蜡在半导体领域中芯片抛光环节的使用,以本公司生产的液态蜡为例,具体介绍了液态蜡的各项性能与使用过程中的关联;另外,还介绍了现阶段国内外液态蜡的研究进展现状。

研究背景

随着互联网、大数据、人工智能等新技术兴起,以及以5G为首的新基建项目的加速推进,国内外半导体材料产业取得了长足的进步,形成了较为完整的产业体系,产业规模稳步增长,中高端电子材料产品转型升级速度加快,技术实力稳步提升,显示用液晶材料、集成电路用光刻胶等迎来井喷式发展。

 2021年是“十四五”开局之年,全国各地都纷纷制定了相关集成电路产业规划,并提出了2025年产业规模目标。预估到2025年,我国集成电路产业规模(设计、制造、封测、设备、材料)将高达4万亿元。同年小米、OPPO、vivo等多家手机公司全都宣布了自研芯片。小米率先公布了澎湃C1、随后vivo也公布了第一颗自主开发ISP芯片 V1,而OPPO也公布了首颗自研影像专用NPU芯片马里亚纳。可以看到,目前国内的头部手机厂商已经在自主研发芯片的赛道上聚齐,但除了华为外,三大厂的进度都仍处在影像领域的研发,在半导体芯片领域有了广阔发展前景。

在芯片的制作中,通常在芯片的研磨抛光环节会使用到液态蜡。芯片的减薄和抛光通常是使用胶黏剂将芯片固定陶瓷盘上进行操作,在这一环节使用的胶黏剂通常需要满足以下条件:①在研磨前芯片粘结在研磨盘上不能有气泡,②需满足在进行研磨抛光工作中芯片不会出现跑片和滑片的现象,③在研磨抛光工作结束后通过加热可以将芯片从研磨盘上卸下来,④卸下来的芯片和研磨盘上的蜡可以通过无水乙醇,丙醇等溶剂去除。现阶段满足这些条件常用的胶黏剂是液态蜡和固态蜡。这两类胶黏剂都属于热塑型胶黏剂,它们各有优劣。相比固态蜡,液态蜡具有更好的流动性和流平性,因此液态蜡主要应用于加工精度较高的芯片。

液态蜡的理化性能

现阶段中,客户对于液态蜡关注的性能指标主要是液态蜡的常温粘度,液态蜡中树脂的软化点以及液态蜡的固含量等。由于客户的需求不同,液态蜡的性能指标也不同。以本公司生产的两款液态蜡为例,本公司生产的液态蜡主要有两类:一般型液态蜡(LW-NT-100或LW-NT-130)和耐温性液态蜡(LW-HT-100或LW-HT-130),其具体的性能如下表所示,客户可根据所需性能选择不同产品。

表1本公司各类液态蜡的性能指标

 GRISH
一般型液态蜡LW-NT-100耐温型液态蜡LW-HT-130
外观深褐色液体
粘度(cps 25℃)23.7921.46
固含量30%38%
软化点70℃87℃
比重0.942g/cm30.905g/cm3

如表1所示,本公司所生产研发的液态蜡的理化性能主要由粘度、固含量、软化点和比重4个指标来表征。首先,粘度表征的是液态蜡在常温(25℃)下的粘稠度,粘度越大,液态蜡的流动性越差;在半导体行业中,使用液态蜡通常是借助自动上蜡机来对芯片进行涂蜡,液态蜡粘度越大,它的流动性就越差,这样就容易使芯片上的蜡液涂覆的不均匀,影响芯片后一道的抛光操作,以此,对于不同的芯片要选择不同粘度的液态蜡。其次是液态蜡的固含量,这个指标主要表征的是液态蜡中溶质占总体的比例;在工业生产中,通常液态蜡的固含量越高,芯片贴在研磨盘上抛光时越不容易发生跑片和滑片。之后是液态蜡的软化点,这个性能越高,代表着芯片在研磨抛光时使芯片不发生跑片和滑片的耐受温度越高,也就是说如果客户进行研磨抛光时研磨盘温度较高,选择液态蜡就选软化点较高的那一款。最后是液态蜡的比重,这个性能主要表征的液态蜡液体的密度,密度的大小与液态蜡制备时使用的树脂有关,在使用时,它的大小不会影响液态蜡的使用效果,下图1为本公司生产的液态蜡包装成品外貌。

图1 液态蜡包装成品外貌

现阶段国内外液态蜡现状

由于半导体芯片行业不断发展,客户对液态蜡的需求量也是逐步提升,同时对液态蜡的各项性能也有了更多要求。因此,对液态蜡的产品开发也逐渐多元化,以此来满足客户的各种需求。现阶段,国外的液态蜡产品主要以日本生产的产品为主。他们生产的液态蜡产品众多,可以满足各类芯片的加工使用,但是价格昂贵。

对于国内,在十多年前,液态蜡还是主要依靠国外进口产品来满足使用要求。但是近些年来随着半导体行业的蓬勃发展,对液态蜡的需求不断加大,而国外进口的产品价格昂贵,中国开始自主研发这类液态蜡,目前这类液态蜡产品开发进展结果喜人。

如中国专利CN113969134A发明了一种液体晶片粘接蜡,通过将环己烷、乙醇、正丁醇和石油醚等溶剂混合,在其中加入了热熔型粘接蜡,通过搅拌混合均匀,在经过过滤得到了这种液态蜡,这类蜡通过晶片的尺寸来确定滴加多少蜡液,直接将蜡滴加在抛光盘上,之后放上晶片,最后进过压合加热,将蜡液中的溶剂挥发出去。这款蜡这样使用,可以使蜡液分布较均匀,但是容易存在气泡,不利于晶片抛光后的观察,同时这款蜡所选的溶剂较多,如环己烷存在有毒的缺点,这款蜡不太环保。

中国专利CN105018025A公开了一种GaAs MMIC减薄工艺中粘片用的液态蜡,所公开的液态蜡是由一定量的crystalbond509强力粘合剂以及能够溶解所述crystalbond509强力粘合剂用量的丙酮组成,以解决液态蜡和高温胶互融的问题。但是丙酮也属于有毒溶剂。

中国专利CN86101702A公开了一种液态蜡粘接剂,所公开的这类液态蜡粘结剂由溶剂和溶质配制而成,溶剂是三氯乙烯、溶质是松香,并加有增塑剂邻苯二甲酸二丁酯和邻苯二甲酸二辛酯,其中三氯乙烯、松香和邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二辛酯的比例是:100(ml):100(g):2(g):2(g)。这种液态蜡的粘结力较低,在研磨过程中容易跑片。

中国专利CN101376793A公开了一种抛光粘片用液态蜡及其制备方法和抛光粘片的工艺,所公开的液态蜡含有以下组分(按1万克重量比):聚乙烯二醇662.3~665.7,漆片198.5~201.5,异丙醇548.7~551.2,25%的氨水307.0~309.7,18兆去离子水2347.8~2353.4,8030树脂5913.1。这种液体蜡在晶片表面的润湿、流平性较差,粘片后蜡层容易产生气泡,导致粘结力较低。另外,该专利文献所用的基本树脂耐高温性差,在研磨过程中,液态蜡对晶片的粘结力在高温环境下容易失效,晶片容易跑片,抛光效率低,精度低。

有鉴于此,本公司发明提供一种新型的液态蜡及其制备方法(专利号:CN107011839A)。本公司发明的是一种高温型液态蜡,针对CMP带盘抛的高温需求,应用于抛光、研磨温度严苛的环境,抛光过程中可承受50~70℃的高温。这种液态蜡是以酚醛树脂和氢化松香为溶质,小分子量醇为溶剂,复配而成。其拥有良好的流动性,可均匀涂布到工件上,质量稳定,具有较高的粘结力,研磨过程中不会出现跑片现象,适用于高精度的切削、研磨、抛光等制程,同时所选溶剂均为环保型溶剂。

由上所述,目前液态蜡的开发和发展还处于一个飞速发展的阶段,为了适用于半导体行业中各类芯片的使用,液态蜡的种类也越来越多,在逐步的替代进口的液态蜡产品。

展望

目前,液态蜡还是处于一个飞速发展的时期,国产液态蜡正在逐步的替代进口液态蜡,国内生产液态蜡的企业也越来越多,相互之间的竞争也愈演愈烈,同时人民的环保意识越来越强,促使液态蜡产品逐渐向精细化、环保化和低气味化发展。

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